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反射膜厚仪
可在几秒钟内完成高精度的薄膜厚度测量，实现便捷高效的无损测量。其基本原理是：光源发出的光经光纤导出后照射在样品表面，样品表面与基底反射的光产生干涉，通过其相位变化与波程差可测量薄膜厚度及光学常数。相比于其他的薄膜厚度测量仪器，具有经济适用，构造及维护简单，使用方便等优点。
F20反射膜厚仪单点测量系统
样品要求：透明或半透明薄膜
薄膜厚度：1nm~3mm
基底（厚度测量）：表面光滑，可反射光线
基底（光学常数测量）：平整，镜面反射
可测量多层薄膜样品
膜厚、折射率和消光系数
设定扫描图案，自动测量，速度2point/s
内置多种图案，用户可自建扫描图案
全自动XY工作台
F30在线厚度测量系统
测量速度快，可实时监控薄膜沉积生长情况
测量沉积率、沉积层厚度、光学常数 (n 和 k 值) 和半导体以及电介质层的均匀性
精度＜±1%
非接触式测量，可以在沉积室进行测量
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https://www.chem17.com/st593869/product_37919994.html